半导体行业
在制造半导体芯片的绝缘层（如二氧化硅薄膜）时，常用的化学气相沉积方法是使用硅烷（SiH₄）和氧气（O₂）作为反应气体。气体质量流量控制器（MFC）精确控制硅烷和氧气的流量，确保它们以准确的比例进入反应室。这对于生成高质量、均匀的二氧化硅薄膜至关重要。因为薄膜的厚度、成分和质量直接影响半导体器件的性能，如绝缘性能和电子迁移特性。
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光伏行业
在 PECVD 过程中，需要精确配比反应气体，如硅烷（SiH₄）、氨气（NH₃）等。气体质量流量控制器MFC能够准确测量和控制这些气体的流量，确保薄膜的厚度、均匀性和光电性能达到理想状态，从而提高光伏电池的转换效率和稳定性。
PVD（物理气相沉积）：PVD 过程中，也需要对各种反应气体进行精确控制。气体质量流量控制器可以根据工艺要求，稳定地提供所需的气体流量，保证沉积薄膜的质量和性能，满足光伏电池的生产需求。
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真空镀膜行业
在蒸发镀膜过程中，如采用电阻加热、电子束加热等方式使镀膜材料蒸发，然后沉积在基底表面。气体质量流量控制器（MFC）用于精确控制真空腔内的工艺气体流量。例如，在镀铝膜时，氩气常作为保护气体和辅助气体引入。MFC 精确控制氩气流量，能防止蒸发的铝原子在飞行过程中被氧化，确保铝膜的纯度和质量。
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生命科学行业
在生物发酵过程中，微生物的生长和代谢对气体环境非常敏感。气体质量流量控制器可精确控制氧气、氮气和二氧化碳等气体的供应，确保发酵罐内气体环境的稳定性和一致性，从而提高发酵效率和产品质量。例如，在抗生素发酵生产中，通过精确控制氧气流量，可使发酵过程中的溶氧水平保持在预设范围内，促进抗生素的合成。
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燃料电池行业
精确控制反应气体供应：在燃料电池测试过程中，需要精确控制氢气和氧气（或空气）等反应气体的流量。气体质量流量控制器（MFC）可以根据测试要求，精确地将氢气以特定的流量输送到燃料电池的阳极，将氧气或空气输送到阴极。
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生物发酵行业
氧气供应：在好氧发酵过程中，微生物需要充足的氧气来进行呼吸作用。气体质量流量控制器（MFC）可以精确地控制进入发酵罐的氧气流量。例如，在酵母菌发酵生产乙醇的过程中，通过 MFC 将氧气流量控制在合适的范围，能确保酵母菌的有氧呼吸阶段顺利进行，为后续的无氧发酵产生乙醇提供足够的能量和中间产物。一般来说，根据发酵罐的大小、酵母菌的浓度和发酵阶段等因素，MFC 可以将氧气流量控制在每分钟几升到几十升不等。
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元素分析仪器
化学反应气体控制：在一些特殊的元素分析方法中，会涉及到化学反应气体。例如，在化学发光氮测定仪中，用于分析样品中的总氮含量时，需要通过 MFC 控制氧气的流量。氧气与样品中的氮化合物反应产生化学发光信号，MFC 精确控制氧气流量可以调节反应的速率和程度，从而准确地测量氮元素的含量。一般来说，MFC 可以将氧气流量控制在 50 - 150 mL/min，确保化学反应在合适的条件下进行。
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